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TiN纳米颗粒实现太阳能利用新突破
TiN纳米颗粒 太阳能利用
2016/6/28
近日，日本国立研究所材料纳米构造中心纳米系统光子学组研究团队通过数值计算发现，过渡金属氮化物和碳化物纳米颗粒能有效吸收阳光。同时实验证实，当氮化物纳米颗粒分散于水中时，会迅速提升水温。通过有效利用阳光，这些纳米颗粒可能被应用于水的加热和蒸馏。
Study of the Gelling Process for the Preparation of Tin Oxide Materials Based on Tin Tetrabutoxide
sol gel tin tetrabutoxide hydrolysis condensation
2009/11/13
The gelling process in the preparation of tin oxide materials based on tin tetrabutoxide is studied. Sn(OBun)4 modified by two moles of acetylacetone (AcAc) has a stable six-member ring structure and ...
纳米TiN粉末在水溶液和无水乙醇中的分散行为
纳米颗粒 分散 团聚
2009/11/10
通过粒径和颗粒表面电性质的测定，探讨了纳米TiN粉末在水溶液和无水乙醇中的分散特性及表面活性剂对分散的影响. 实验结果表明，纳米TiN颗粒在水中分散，溶液的pH值对颗粒的分散性有很大的影响，在pH 8处，能得到最好的分散效果. 随pH值变化，颗粒表面的荷电性质从正变化为负，等电点为3.7. 其分散行为遵循双电层静电稳定机制. 纳米TiN颗粒在无水乙醇中的分散行为受pH值的影响相对较小. 在整个pH...
用等离子体浸没离子注入与沉积(PIIID)复合强化新技术在AISI52100轴承钢基体表面成功合成了硬而耐磨的氮化钛薄膜。膜层表面的化学组成和相结构分别用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)表征;膜层表面的原子力显微镜(AFM)形貌显示出TiN膜结晶完整，结构致密均匀。XRD测试结果表明，TiN在(200)晶面衍射峰最强，具有择优取向。Ti(2p)的XPS谱峰泰勒拟合分析揭示出，Ti(...
第一性原理计算TiN(111)/BN/TiN(111)界面的电子结构、成键特性和结合强度
纳米复合薄膜 氮化物 界面 第一性原理
2009/10/15
利用第一性原理计算方法研究了TiN(111)/BN/TiN(111)界面的16个理论界面构型.计算结果表明, 最稳定界面构型为top-top-BN 构型, 此构型中B原子只与周围N原子成键, 为四面体配位. 同时计算了top-top-BN构型的电子结构和成键特性以及界面结合强度, 结果表明, top-top-BN构型界面上的键为较强共价键,
其界面结合强度比TiN(111)板层或TiN块体材料的...
化学气相沉积TiN薄膜及其耐磨性能
TiN 薄膜 化学气相沉积
2009/4/1
采用化学气相沉积的方法制备TiN薄膜，以提高K3镍基高温合金的耐磨性能。以TiCl4 和NH3为反应气体，用化学气相沉积法(CVD) 在K3镍基高温合金基体上制备了一系列不同温度和沉积时间的TiN 薄膜。结果表明，与基体相比，沉积TiN薄膜的样品耐磨性能有显著提高。当沉积温度不变时，TiN薄膜耐磨性能随沉积时间的延长先提高后降低；当沉积时间不变时，薄膜的耐磨性能随沉积温度的升高而提高。化学气相沉积...
TiN纳米薄膜的高硬度及其产生机制
无机非金属材料 TiN纳米薄膜 超高硬度
2009/3/6
用脉冲直流多弧离子镀方法在W18Cr4V高速钢基体上沉积具有纳米结构的TiN薄膜,
用XP纳米压入仪测量薄膜的硬度, 研究了其硬度产生的机制. 结果表明,
厚度为2--3 μm、晶粒尺寸约为13--16 nm的TiN薄膜, 硬度为36--43 GPa,
远高于TiN的本征硬度(22--24 GPa). 高温去应力退火实验证实,
具有纳米结构的TiN薄膜的超高硬度不仅是由沉积过程中载能粒子轰...
脉冲偏压对矩形平面大弧源离子镀TiN膜层性能的影响
无机非金属材料 离子镀 矩形靶
2009/2/10
采用矩形平面大弧源离子镀技术在201奥氏体不锈钢基体表面制备TiN硬质薄膜,
研究了脉冲偏压对TiN膜层的表面形貌、相结构、硬度和耐磨性能的影响. 结果表明,
随着脉冲偏压的增大, 薄膜中大颗粒的数目先增加后减少,
这是大颗粒受到离子拖曳力和电场力双重作用的结果. 存在一个最佳的脉冲偏压,
使得制备出的TiN膜层具有较高的I(111)/I(200)比例和较高的耐磨性.
脉冲偏压为-300...
多层复合渗镀TiN耐蚀性的研究
辉光等离子 PVD TiN层
2009/2/1
采用双层辉光渗金属技术，在碳钢表面形成具有扩散层和沉积层的TiN复合渗镀层.对复合渗镀、PVD以及复合渗镀＋PVD三种工艺制备的TiN层表面形貌 、成分及在10%H2SO4和35%NaCl〖JP2〗溶液中的耐蚀性能进行了对比试验研究.结果表明：复合渗镀＋PVD法沉积的TiN薄膜呈较为均匀、致密、细小的组织，Ti和N原子由表层呈梯度向内分布.与PVD法沉积的TiN层不同，是属于冶金扩散结合层，...
低能量离子束辐照磁控溅射沉积超硬质nc-TiN/nc-Cu纳米复合膜
磁控溅射 离子照射 纳米复合膜 硬度
2008/12/1
利用诱导型等离子体辅助双靶磁控溅射法在Si(100)基板表面沉积Cu含量(原子分数)为0—10.0% 的Ti-Cu-N膜, 研究了Cu含量对薄膜结构及硬度的影响. 结果表明, 添加少量Cu可极大地提高薄膜硬度. Cu含量为2.0%的Ti-Cu-N薄膜具有超硬特性, 硬度HV达到42, 约为纯TiN薄膜硬度的2倍. 超硬质Ti-Cu-N薄膜为nc-TiN/nc-Cu纳米复合薄膜, 具有柱状晶结构. ...
TaN／TiN和TaWN／TiN多晶超晶格薄膜的微结构与超硬效应
超晶格薄膜 晶格错配度 超硬效应
2008/11/12
通过磁控反应溅射仪制备了ＴａＮ／ＴｉＮ和ＴＡｗｎ／ＴｉＮ多晶超晶格薄膜. 采用Ｘ射线衍射仪. 透射电子显微镜和显微硬度仪对超 格薄膜的微结构和硬度进行了分析.
脉冲电压幅值对等离子体化学气相沉积TiN薄膜膜基结合行为的影响
PCVD 膜基结合力 压入法 氮化钛
2008/11/11
用工业型脉冲等离子体化学（ＰＣＶＤ）设备. 在高速钢（Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ）和钴基硬质合金ＳＣ３０基材表面沉积了ＴｉＮ薄膜, 用扫描电镜（ＳＥＭ）和连续加载压入仪研究了脉冲电压幅值对膜基结合行为的影响, 结果表明：随脉冲电压在５５０－７５０Ｖ之间逐渐增大, ＴｉＮ晶粒增大, 膜层脆性增加, 沉积速率提高. 但膜层结合力下降：在６５０Ｖ以下膜基界面有一伪扩散层出现, 通过６５０Ｖ后伪散层消失, 这是改善膜...
原位合成TIN/O,-SIALON复相材料的制备工艺
复相材料 原位合成 耐火材料 生产工艺
2008/11/6
原位合成TiN/O，-Sialon复相材料的制备工艺，采用原位合成技术，使用来源广泛、价格便宜的Ti0_2作为增强相原料，使之与其它原料在烧成过程中反应，原位自生TiN，一步合成TiN/O，-Sialon复相材料。工艺流程：过筛；预烧；配料；研磨(湿磨)；超声波振荡；干燥；模压成型；等静压成型：高温烧成。该发明的产品，增强相TiN颗粒微小、分布均匀、与基相相容性好，而且降低了合成TiN的成本，简化...
微合金钢中TiN的析出现律研究
微合金钢 析出 凝固过程 氮化钛
2008/10/31
通过热力学计算及实验, 研究了含Ｔｉ微合金钢在液态及凝过程中ＴｉＮ的析出规律, 研究表明, 通过调整微合金钢中Ｎ和Ｔｉ含量, 可以控制ＴｉＮ的析出时机和形态, 减小其对钢性能的有害影响；还探讨了利用液态析出细小, 弥散的ＴｉＮ作为钢液蝗形核中心, 以细化态组织, 得到等轴细晶的可能性.
高能量密度脉冲等离子体制备高硬耐磨TiN涂层
高能量密度脉冲等离子 TiN涂层 硬质合金
2008/9/8
用高能量密度脉冲等离子体于室温下在硬质合金刀具上成功淀积了高硬耐磨TiN涂层. 实验结果表明, 涂层与基体有强的结合力, 纳米划痕实验临界载荷达90 mN以上; TiN涂层具有很高的硬度和Young’s模量, 分别达27和450 GPa以上. 涂层刀具切削实验表明, 刀具可用于硬度高达HRC58—62的CrWMn钢切削, 且磨损量较低, 寿命长.