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Chemical mechanical polishing of titanium with colloidal silica containing hydrogen peroxide — mirror polishing and surface properties
Chemical mechanical polishing Titanium XPS
2009/9/11
Chemical mechanical polishing (CMP) of cpTi (Ti) was carried out using two types of slurries, acidic and basic colloidal silica containing H2O2 up to 3 wt%, to obtain flat and mirror-polished surfaces...
期刊信息
篇名
Kinetics of Formation of Monodispers Colloidal Silica particles through the Hydroolysis and Condenstation of Tetraethylorthosilicate
语种
英文
撰写或编译
撰写
作者
Chen Shenhli(陈胜利),Dong Peng(董鹏)
第一作者单位
石油...
期刊信息
篇名
Advances in preparation and application of monodisperse colloidal silica particles
语种
英文
撰写或编译
撰写
作者
董鹏
第一作者单位
石油大学（北京）
刊物名称
Progress in Natural Science
页面
2000, 10(8):575-584
出版日期
2000年
月
日
文...