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《膜科学与技术》出版道德声明
《膜科学与技术》 中文核心期刊 膜科学 出版道德声明
2022/6/15
科研诚信是科技创新的基石，时刻保持并践行科研诚信对于学术研究、论文写作以及出版环节的每位参与者来说至关重要。《膜科学与技术》作为展示膜行业科研成果的重要载体，将坚持维护和促进科研诚信，坚守高标准出版伦理道德。在办刊过程中，严格按照国家的出版方针和政策法规开展工作，将膜科学研究与工程应用相结合，服务于国家战略性膜材料研究规划，促进分离膜材料从基础理论到工程应用的全面发展，推动膜技术在水质安全、水资源...
《膜科学与技术》投稿须知
《膜科学与技术》 中文核心期刊 膜科学 投稿须知
2022/6/15
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用DC-PCVD装置对钢沉积Si3N4薄膜
2007/7/28
期刊信息
篇名
用DC-PCVD装置对钢沉积Si3N4薄膜
语种
中文
撰写或编译
作者
吴大兴，杨川，高国庆等
第一作者单位
刊物名称
金属学报
页面
1997年3月，Vol.33，No.3
出版日期
1997年
月
日
文章标识(ISSN)
相关项目
直流等离子体法沉积氮化硅薄膜形成机理及性能研究
化学气相沉积铜薄膜研究进展
2007/7/28
期刊信息
篇名
化学气相沉积铜薄膜研究进展
语种
中文
撰写或编译
撰写
作者
陶波,王琦*
第一作者单位
浙江大学化学系
刊物名称
真空科学与技术
页面
23(5), 340-346
出版日期
2003年
月
日
文章标识(ISSN)
相关项目
二阶段式化学气相沉积成长铜薄膜及其反应机理研究