搜索结果: 1-3 共查到“等离子体物理学 Deposition”相关记录3条 . 查询时间(0.062 秒)
2017年先进等离子体处理技术研讨会（Workshop on Advanced plasma processing techniques:Etch,deposition and growth for optimized device performance）
2017年 先进等离子体处理技术 研讨会
2017/9/22
Plasma processing is an essential tool for making the latest optoelectronic devices. From dry etching of laser facets to high density passivation understanding how the plasma can effect your device is...
第十四届等离子体离子注入与沉积国际会议（14th International Conference on Plasma Based Ion Implantation&Deposition）
第十四届 等离子体离子注入与沉积 国际会议
2017/7/17
It is our great pleasure to announce that the 14th International Conference on Plasma Based Ion Implantation & Deposition, PBII&D 2017 will be held at the banqueting hall on the third floor of New Wo...
期刊信息
篇名
Pulsed Plasma Deposition c-BN Thin Films on Silicon Substrate
语种
英文
撰写或编译
撰写
作者
闫鹏勋,杨思泽
第一作者单位
中国科学院物理研究所
刊物名称
Phys. Stat. Sol.
页面
1994.145.K29
出版日期
1994年
4月
日
文章标识(ISSN)
相关项目
高能量密度等离子体法制备立方氮化...