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搜索结果: 1-15 共查到化学 a-Si:H相关记录59条 . 查询时间(0.095 秒)
在球形SiO2颗粒表面包覆适量的CuO,经还原得到铜包覆的多孔硅复合材料[p-Si@Cu(x)].利用X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜和比表面积分析等手段对样品的组成、物相结构、微观形貌和孔结构进行分析,并初步研究了材料的循环性能和倍率性能.结果表明,铜包覆量x=0.05时,在100 mA/g电流密度下,样品的首次放电容量为3596.9 mA·h/g,首次充电容量为2590.7 mA·h...
用密度泛函方法在B3LYP/6-31G(d,p)基组水平上对反应系统中的所有物种进行全优化,用CPCM溶剂模型在同一基组水平上进行了单点计算,系统研究了硅醇盐前驱体Si(OCH3)4在酸性条件下的水解、聚合机理,阐明了二者的相互竞争关系.研究发现,H2O以氢键或配位键与前驱体结合,然后通过氢转移完成水解;水分子从质子化烷氧基的对面键合并发生水解;第4级水解是H2O从对位驱逐质子化烷氧基,但不能水解...
Mo(CO)6 adsorption on the clean, oxygen-precovered and deeply oxidized Si(111) surfaces was comparatively investigated by high-resolution electron energy loss spectroscopy. The downward vibrational fr...
Functionalizing and patterning of the silicon surface can be realized simultaneously by the chemomechanical method. The oxide-coated crystalline silicon (100) surface is scratched with a diamond tool ...
以季铵盐型阳离子Gemini表面活性剂[C16H33(CH3)2N+(CH2)6N+(CH3)2C16H33]•2Br−(GEM16-6-16)为模板剂, 改变n(Ti)/n(Si)比值, 合成了系列Ti-Si介孔分子筛. X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)等表征结果表明, 在n(Ti)/n(Si)≤0.20时, 分子筛为高度有序六方介孔; 当 n(Ti)/n(...
将Pt/Si-MCM-41用于H2选择催化还原(H2-SCR)消除NO的反应. X射线衍射分析、N2吸附/脱附、氢吸附和透射电镜等分析结果表明,介孔Si-MCM-41具有大的比表面积和孔体积有利于活性组分Pt的分散, Pt/Si-MCM-41催化剂在富氧和80000 h-1空速的条件下,其H2-SCR低温活性在100 ℃达到60.1%,优于Pt/Si-ZSM-5和Pt/SiO2催化剂,其选择...
The structure of 3 nm and 15 nm diamond-like carbon films, grown on Si(001) by filtered cathodic arc, was studied by angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy (ARXPS) and transmission electron m...
The investigations of Si 1s and 2p photoelectron spectra of a poly-Si plate with natural oxide layers based on high energy excitation using X-ray tubes with three kinds of target (Mg Kα, Zr Lα and Ag ...
Composition depth profiling of HfO2 (2.5 nm)/SiON (1.6 nm)/Si(001) was performed by three diffetent analytical techniques: high-resolution Rutherford backscattering spectroscopy (HRBS), angle-resolve...
利用固源分子束外延(SSMBE)生长技术, 在Si(111)衬底上预沉积不同厚度(0、0.2、1 nm)Ge, 在衬底温度900 ℃, 生长SiC单晶薄膜. 利用反射式高能电子衍射仪(RHEED)、原子力显微镜(AFM)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)等实验技术, 对生长的样品进行了研究. 结果表明, 预沉积少量Ge(0.2 nm)的样品, SiC薄膜表面没有孔洞存在, AFM显示表面比较平整, ...
NiPd/Si界面常温扩散及硅化物形成的XPS证据。
颗粒膜;电沉积;相分离;巨磁电阻;超顺磁性
镓在裸Si系和SiO2/Si系掺杂效应。
Si(CH3)2Cl2分子的电离电势和化学键能的测定。
铜在ρ-Si上激光诱导电沉积过程的研究。

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