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搜索结果:
1-1
共查到
“
光学仪器及技术 MBE
”
相关记录1条 . 查询时间(0.015 秒)
L-
MBE
法生长ZnO薄膜的退火研究
氧化锌
激光分子束外延
退火
2009/8/14
研究了空气退火对于激光分子束外延(L-
MBE
)法制备的ZnO薄膜光学及结构特性的影响,报道了采用小角度X射线分析(GIXA)技术对于ZnO薄膜退火前后的表面及界面状况的定量分析结果.RH
EE
D衍射图样表明,薄膜经过380℃及600℃原位退火后,其表面仍然较为粗糙.而XRD在面(in-plane)Φ扫描结果显示出经过800℃空气退火之后,薄膜具有更好的外延取向性.GIXA分析结果表明,800℃退火后...
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