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In 2013 James Hone, Wang Fong-Jen Professor of Mechanical Engineering at Columbia Engineering, and colleagues at Columbia demonstrated that they could dramatically improve the performance of graphene—...
CLEAN算法在机载毫米波综合孔径成像中的应用
CLEAN算法 综合孔径 毫米波成像 消卷积
2008/6/13
该文将非即时u-v覆盖的综合孔径射电天文观测中的CLEAN算法应用到即时u-v覆盖的机载二维被动毫米波综合孔径成像中，避免因空间频率覆盖的不完整而产生对图像质量的影响，以达到消除高旁瓣对图像产生的负面影响。该文主要分析了CLEAN算法中具体处理时的“清洁”脉冲类型、脉冲半峰值宽度和迭代比例因子γ对处理后的图像的影响。研究结果表明：当清洁脉冲半宽度峰值等于系统脉冲响应图的半峰值宽度时、迭代比例因子γ...
Ultra Clean Technology 中国第二家工厂隆重开业（图）
工厂 隆重 开业
2011/11/1
总投资为1200万美元的Ultra Clean Technology超科林位于中国上海的第二家工厂11月15日隆重开业，将用于设计和制造用于液晶显示屏及半导体芯片生产设备的精密零部件和子系统。
Substrate Effect on Plasma Clean Efficiency in Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System
Substrate Effect Plasma Clean Efficiency Plasma Chemical Vapor Deposition System
2010/12/6
The plasma clean in a plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system plays an important role to ensure the same chamber condition after numerous film depositions. The periodic and applicable...